XRD冷熱臺是一種用于X射線衍射(XRD)實驗的設備,能夠在不同溫度條件下對樣品進行分析。主要用于研究材料在升溫或降溫過程中的相變、晶體結構變化和熱行為等。
主要功能
1.溫度控制:XRD冷熱臺能夠在非常廣泛的溫度范圍內(從低溫到高溫,通常為-190°C至600°C或更高)精確控制樣品的溫度。這使得研究者可以模擬各種環(huán)境條件,如定點低溫或高溫下的晶體結構行為。
2.原位觀測:冷熱臺允許X射線衍射儀在樣品溫度變化的同時進行原位測量,研究材料在加熱、冷卻過程中的相變、晶體結構變化及其他熱相關現(xiàn)象。實時監(jiān)測避免了傳統(tǒng)方法中因溫度變化后樣品轉移帶來的誤差。
3.氣氛控制:XRD冷熱臺可以控制樣品周圍的氣氛,例如在真空、空氣、惰性氣體或特定的反應氣體環(huán)境下進行實驗。這樣可以模擬實際工作條件,如催化劑在反應氣氛下的相變行為。
4.精確的溫度梯度:冷熱臺能夠提供穩(wěn)定的升溫和降溫速率,允許用戶對材料進行快速升溫或緩慢的熱處理實驗,從而研究不同溫度變化速率下材料的行為。
應用領域
1.材料科學:用于研究材料的熱膨脹、相變、熱分解等過程,幫助開發(fā)和優(yōu)化新型材料,如高溫超導體、功能陶瓷等。
2.地質學:在高溫高壓條件下,研究礦物的相變行為以及地殼、地幔材料在定點環(huán)境下的晶體結構變化。
3.化學與催化研究:催化劑材料在反應條件下的穩(wěn)定性和結構變化是研究的重要方向,XRD冷熱臺為此類實驗提供了原位分析的手段。
4.物理研究:研究熱電材料、磁性材料等的結構變化,以及材料在低溫下的超導性研究。
設備結構
XRD冷熱臺的設備結構主要包括溫度控制系統(tǒng)、樣品臺、數(shù)據(jù)采集和分析系統(tǒng)以及機械結構。溫度控制系統(tǒng)由加熱元件和制冷裝置組成,用于精確調節(jié)樣品溫度。樣品臺配備樣品夾具和溫度傳感器,確保樣品穩(wěn)定并實時監(jiān)測溫度,數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)通過計算機進行實驗控制和數(shù)據(jù)分析。最后,機械結構提供支撐和調整機制,確保設備的穩(wěn)定性和精確性。這些部分的協(xié)同工作使XRD冷熱臺能夠有效研究材料在不同溫度條件下的熱行為和相變特性。
選購參考
簡要參數(shù):
•溫度范圍:-190~600℃ / RT~1200℃
•溫度穩(wěn)定性:±0.1℃(<600℃)±1℃(>600℃)
•支持反射/透射模式
•氣密腔室,可通保護氣體
•腔室可升級真空腔室(10^(-3) mbar)
•上位機軟件控制
•支持改動或定制
參數(shù)一覽表: